作直流磁控溅射铜靶时,无法起辉.
直流磁控溅射 射频磁控溅射 不同的原因
直流磁控溅射和射频磁控溅射的区别到底是什么啊
磁控溅射法有哪些种类?反应磁控溅射法是不是分为直流磁控溅射法和交流磁控溅射法
直流磁控溅射和射频磁控溅射的区别是什么啊?最好详细解释一下
直流磁控溅射靶材被穿透,会有什么现象啊?
磁控溅射靶材是铟、起辉气体是氩气(高纯),反应气体是氧(高纯),在基片上需要生成三氧化二铟
磁控溅射镀膜中 氧气 氩气 氮气 分别起什么主要作用?
磁控溅射镀膜的应用
贴好膜就贴大师磁控溅射膜?
电容在交流改直流电路中起什么作用
直流电路种串联一个电阻起什么作用
直流磁控溅射问题用ZO掺Al靶材,溅射时偶尔有打火,最重要的是电压开始只能调到500v,电流大概200mA,随着溅射时间