Si4Cl4和N2在H2气氛保护下,加强热发生反应,可得较高纯度的氮化硅.反应的化学方程式为

Si4Cl4和N2在H2气氛保护下,加强热发生反应,可得较高纯度的氮化硅.反应的化学方程式为 SiCl4和N2在H2气氛保护下,加强热发生反应,其反应化学方程式是什么? 四氯化硅和氮气在氢气氛围下加强热反应可得较高纯度的氮化硅 现用四氯化硅和氮气在氢气气氛保护下,加强热发生反应 反应方程式为什么 四氯化硅和氮气在氢气气氛下加强热反应的反应方程式! 有谁知道四氯化硅SiCl4和氮气N2在氢气H2的保护下反应制取氮化硅的方程式 在一定温度下，发生如下反应：N2+3H2⇌2NH3 起始时充入的N2和 H2 的物质的量分 一定温度下,在一定容的密闭容器中充入N2和H2发生如下反应:N2+3H2=2NH3,并达到平衡, 四氯化硅和氮气在氢气保护下加强热发生化学反应的方程式,为什么要用氢气保护 将对H2的相对密度为4.25的N2和H2通入密闭容器中,在一定条件下发生合成氨反应, 在一密闭容器中充入一定量的H2和N2发生反应N2+3H2⇌2NH3，经测定3秒末的氢气的反应速率为0.3mol•L-1• 恒温下将1molN2和3mol H2 在体积为2L的容器中混合，发生如下反应：N2（g）+3H2（g