CVD中氩气作用

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国内做金刚石涂层设备的都是些大学在搞,上海交大机动学院就自己做设备,北京有一家也是自己做的设备,都差不多,炉子空间小,每次最多能涂七八十支

我想氩气应该是一种保护气体吧因为他本省是一种惰性气体具体的我正在看你是专门做nanotube还是随便问问?

其含义是气相中化学反应的固体产物沉积到表面.CVD装置由下列部件组成；反应物供应系统,气相反应器,气流传送系统.反应物多为金属氯化物,先被加热到一定温度,达到足够高的蒸汽压,用载气（一般为Ar或H2）

微波等离子CVD法在石英玻璃上生长金刚石薄膜.在真空条件下采用氢气刻蚀二氧化硅形成硅膜,用微波等离子化学气相沉积法在玻璃上生长金刚石薄膜,并用X射线衍射、Raman光谱和光电子能谱对石英玻璃上的金刚石

表面涂覆技术：物理气相沉积（PVD）、化学气相沉积（CVD）、射频溅射（RF）、离子喷涂（Plasmasprayingcoating,PSC）、化学镀等[38~42].PVD与CVD相比,其工艺过程中

高温高压（HTHP）法最早是以石墨为原料的,引入适宜的金属催化剂Fe、Co、Ni、Mn、Cr等,在2000K以上温度,几万个大气压下可以合成金刚石.目前,高温高压（HTHP）法只能生长小颗粒的金刚石；

问的我不太明白!我也是做刀具的,有空交流!再问：你不是做CVD的吗！你在哪里做刀头啊，什么牌子的刀头啊！再答：CVD了解点，我主要做金刚石刀具生产和销售！没什么牌子，看效果！

CVD采用的是与DVD相同的解压技术,水平解析度高达400线,接近目前彩电清晰度极限,声音采用四声道,可同时支持两路立体声,能够提供四国语言选择及四种屏幕文字选择.人们对DVD心动不行动的原因之一是它

ChemicalVaporDeposition化学气相沉积,众多薄膜沉积技术中的一种.有许多化合物在半导体运用上比铜或者铝的性能更好,因而开发出来的一种薄膜沉积方式.

嘿嘿还没人回答告诉你、AtmosphericplasmaCVDfastandpreparationofSifilmstructureappraisal

CVD技术是化学气相沉积ChemicalVaporDeposition的缩写.化学气相沉积乃是通过化学反应的方式,利用加热、等离子激励或光辐射等各种能源,在反应器内使气态或蒸汽状态的化学物质在气相或气

atmospheric-pressurechemicalvapordeposition常压化学气相沉积

化学气象涂层

CVD化学气相沉积,PVD物理气相沉积,ETCH蚀刻EE设备工程师,PE制程工程师

CVD是涂层金刚石,PCD,是聚晶金刚石!再问：涂层金刚石？那它的内部材质是什么呢？再答：金刚石微粉和粘和剂，还有一些微量元素！

CVD(ChemicalVaporDeposition,化学气相沉积),指把含有构成薄膜元素的气态反应剂或液态反应剂的蒸气及反应所需其它气体引入反应室,在衬底表面发生化学反应生成薄膜的过程.在超大规模

CVD(ChemicalVaporDeposition,化学气相沉积),指把含有构成薄膜元素的气态反应剂或液态反应剂的蒸气及反应所需其它气体引入反应室,在衬底表面发生化学反应生成薄膜的过程.在超大规模

主要是VLS机理即碳源气体分解产生自由基,以碳原子的形式溶解在催化剂颗粒中,再析出产生碳纳米管.对于没有金属催化剂的体系,也有自由基直接生长机理,即开口生长机理.lz,这么专业的问题你还指望着等其他人

其原理为,将含有金属催化剂的碳氢液作为碳源,注人到高温立式管式反应器中,在一定条件下,在气流中生长的碳管形成连续的碳管积聚体,以机械缠绕等方法将积聚体直接纺成纤维.该方法是2004年李亚利等人报导的[