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超声波清洗硅片最佳的超声频率是多少?

来源:学生作业帮 编辑:作业帮 分类:综合作业 时间:2024/05/15 08:05:22
超声波清洗硅片最佳的超声频率是多少?
超声波清洗机单晶硅片方法及其装置方法是将被洗研磨硅片水平状放置在清洗槽底部上方栅栏状的石英棒框架上,在确保清洗槽内具有去离子水高度并不断流动的条件下,利用设在清洗槽底部的超声波振子进行清洗,超声波频率为40KHz,80KHZ,每5分钟将研磨硅片翻一个面,连续超洗至被超洗的研磨硅片表面没有黑色污染物冒出止.装置中搁置单晶硅片框架的底壁为栅栏状的石英棒,整个框架由支撑脚支撑在清洗槽内.本发明改竖超洗水平超洗后,解决了因硅片距离超声波源不等、污染物易堆积在硅片表面下部而造成局部难以清洗干净的问题,以及消除了用聚四氟材料制成的承载硅片的软体花篮会吸附和阻挡超声波源的传递,造成硅片表面局部区域清洗不干净的现象.
再问: 谢谢!这个是清洗研磨硅片的原理。现在我这边清洗含有铁铝等金属杂质的硅片。没有什么其他的污染物了?超声清洗用纯水,最佳的超声波清洗温度和频率的工艺参数是多少?谢谢!
再答: 如果是硅料清洗就直接用25-28KHZ就可以了,这种低频的超声波力度更大,如果已经很薄的硅片就必须是80-120KHZ。频率的选择是根据硅片上需要处理的附着物颗粒大小来定的