作业帮 > 化学 > 作业

磁控溅射中在溅射过程中一直充入氩气,同时还要抽出氩气,这是为什么?能否为小弟指点迷津

来源:学生作业帮 编辑:作业帮 分类:化学作业 时间:2024/06/06 00:25:37
磁控溅射中在溅射过程中一直充入氩气,同时还要抽出氩气,这是为什么?能否为小弟指点迷津
即为什么不设定一个气压值,在压强低于这一恒定值时再充入氩气,直到再次达到这一恒定值?
不知为什么看不到你的回复,麻烦你再粘贴一遍好吗?
首先,真空腔室存在漏气,如果没有连续抽气,外界的空气就会渗入腔体,影响工作气体的洁净度,可能使得薄膜氧化或者氮化;其次,溅射是一个动态平衡,需要不断的更新靶表面的气体保持工作状态不变,否则无法获得结构均一,性能良好的薄膜.
无法重复发帖.