氮化铝广泛应用于电子陶瓷等工业领域.在一定条件下，AlN可通过反应：Al2O3+N2+3C 高温 .

来源：学生作业帮编辑：作业帮分类：化学作业时间：2024/05/11 16:23:33

氮化铝广泛应用于电子陶瓷等工业领域.在一定条件下，AlN可通过反应：Al₂O₃+N₂+3C

高温

A、反应Al₂O₃+N₂+3C

高温
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2AlN+3CO中，氮元素化合价降低，N₂是氧化剂，碳元素化合价升高，所以C是还原剂，故A错误；
B、反应Al₂O₃+N₂+3C

高温
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2AlN+3CO中，化合价升高数目=化合价降低数目=化学反应转移电子数目=6，即每生成2molAlN需转移6mol电子，所以每生成1molAlN需转移3mol电子，故B正确；
C、AlN中铝元素显+3价，根据化合价规则，所以氮的化合价为-3，故C错误；
D、AlN的摩尔质量是41g/mol，g是质量的单位，故D错误．
故选B．

氮化铝（AlN）具有耐高温、抗冲击、导热性好等优良性质，被广泛应用于电子工业、陶瓷工业等领域.在一定条件下，氮化铝可通过化学题：超细氮化铝粉末被广泛应用于大规模集成电路生产等领域.其制取原理为：Al2O3＋N2＋3C 2AlN＋3CO 超细氮化铝粉末被广泛应用于大规模集成电路生产等领域.其制取原理为：Al2O3＋N2＋3C 2AlN＋3CO. 超细氮化铝粉末被广泛应用于大规模集成电路生产领域.其制取原理为Al2O3+N2+3C═2AlN+3CO由于反应不完全 (1/2)氮化铝〔AlN,Al和N的相对原子质量分别为27和14〕广泛应用于电子、陶瓷等工业领域.在一定条件下... 电子转移数目的计算Al2O3+N2+3C=高温=2AlN+3CO每生成1mol的AlN需要转移多少mol电子（2011•西安模拟）氮化铝（AlN）是一种新型无机材料，广泛应用于集成电路生产领域．某氮化铝中含有碳或氧化铝杂质，现用（2011•常州模拟）氮化铝（AlN）具有耐高温、抗冲击、导热性好等优良性质，被广泛用于大规模集成电路生产、陶瓷工业等领电解铝是目前广泛使用的金属．工业上用电解氧化铝制取金属铝，反应的化学方程式为：2Al2O3 通电 . a mol N2与b mol H2混合，要一定条件下反应达到平衡，生成了c&nb 用双线桥法分析下列氧化还原反应 Al2O3+N2+3C=2AlN+3CO NaH+H2O=NaOH+H2 1.氮化硅是一种高温陶瓷材料,工业上制氮化硅的方法是：用单质硅和氮气在高温条件下反应生成氮化硅,写出该反应的化学方程式：