电路板酸性蚀刻液更换周期
来源:学生作业帮助网 编辑:作业帮 时间:2024/05/21 16:03:32
三价铁离子与铜发生氧化还原反应,生成二价铁离子和铜离子2FeCl3+Cu=2FeCl2+CuCl2
主要是针对铝材,例如HP笔记本外壳、HTC手机表面为了更加好的效果,就要用碱蚀.碱蚀特点:深度浅、效果好,底平.酸蚀:深、效果差、底不平.
如果不进行图形电镀,用的是酸式线!目前比较普遍的都是酸式,因为这样可以减少图形电镀的过程,只进行一次电镀即可.这称之为负向工艺.但这种工艺,会增加镀铜的用量,所以加工成本比图形电镀的会高一点.你说的不
只能加碱,生成氢氧化铜沉淀,过滤、干燥、燃烧后用氢气还原!不过成本较高.选用木炭还原成本低!
可以,三价铁离子可以和铜反应.2Fe3++Cu==2Fe2++Cu2+,可以刻蚀铜制品
拔下连线(最好做记录),换上新版,在插上连线.
选择C氯气没有漂白性,溶于水形成的HClO有漂白性.Cl2+H2O====HCl+HClO这是常考的,需要注意.其他的都对.
有气体产生,氧气、二氧化硫
不需要再添加其它化工原料,只需提高蚀刻液温度(约45°附近)并不断摇摆蚀刻液使其流动就能快速蚀刻.
加入过量铁粉,充分反应后过滤,得到Cu和Fe的混合物,再将该混合物溶解在盐酸中,再过滤即可得到Cu.再问:在加入铁粉之前要把废水调到一个特定的PH值吗?再答:不需要的再问:您能告诉我,整个操做的过程吗
酸性蚀刻液是氯化铜;碱性蚀刻液也是氯化铜,只不过一个是酸性的,一个是碱性的氯化铜中的Cu2+有氧化性,跟板面的铜反应可以生产Cu+反应如下:Cu+CuCl2=Cu2Cl2形成的Cu2Cl2是不易溶于水
我只知道这个可以,不光要浓度还要温度,但具体的不是很清楚
过硫酸盐(过硫酸铵/过硫酸钠)+硫酸铜,原为无色,但硫酸铜溶于水后呈蓝色再问:我也能百度到是在(NH4)2S2O8,但是不确定,能告诉我(NH4)2S2O8和Cu反应产物吗?告诉我就采纳再答:(NH4
从理论上来说,酸性蚀刻的溶铜量大于碱性蚀刻的溶铜量,但是在实际操作中,由于考虑到蚀刻速度和侧蚀问题,两种蚀刻液的溶铜量基本相等.
酸性蚀刻,是蚀刻玻璃么?用氢氟酸可以蚀刻,氢氟酸是唯一可以与二氧化硅反应并且溶解它的酸,而二氧化硅就是玻璃的主要成分.而碱性蚀刻……我知道氢氧化钠可以与二氧化硅反应,但生成粘性物质,与蚀刻的关系实在不
酸性刻蚀稳定
取0.5ml样品加适量DI水,加10mlPH10缓冲液,加3滴PAN指示剂.用0.05NEDTA滴定到绿色为终点.再问:能不能详细点,还有计算公事等待,,,
酸性蚀刻液的主要成份:CuCL2.2H2O,HCl,NaCl,NH4Cl,H2O酸性氯化铜蚀刻过程的主要化学反应在蚀刻过程中,氯铜中的Cu2+具有氧化性,能将板氧化成Cu1+,其反应如下:蚀刻反应:C
酸性蚀刻液的主要成份:CuCL2.2H2O,HCl,NaCl,NH4Cl,H2O酸性氯化铜蚀刻过程在阴极:Cu1++e->Cu这种方法的优点是可以直接回收多余的铜,同时又使Cu1
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