四面体配合物有没有旋光异构体

来源:学生作业帮助网 编辑:作业帮 时间:2024/05/09 14:43:12
请问下C10 C15 C20 C25 C30混凝土有没有一个比较标准的配合比?C15素混凝土垫层呢?例如,C30混凝土2

可以肯定的告诉你,没有.混凝土具有不同的强度有很多原因,如混凝土中组成材料用量的不同,骨料的CBR值大小不同等等.以C30混凝土的配合比来举个例吧,以下是一份C30混凝土配合比的计算书:一、设计依据J

配合物的结构式?

什么配合物?具体的名字呀什么说清楚!配合物又叫络合物、螯合物,由中心原子、配体(可以是分子、离子团等)和其他原子(离子)构成.假设中心原子用M表示,配体为B,其他为X,那么配合物通式可以为MmBnXo

都有哪些金属离子可以形成配合物?各带几个配位体?

Ag+,可以形成[Ag(NH3)2]+,带2个配体;Cu2+,可以形成[Cu(NH3)4]2+,带4个配体;Fe3+,可以形成〔Fe(CN)6〕3-,带6个配体;Zn2+,可以形成[Zn(NH3)4]

公差配合问题配合的种类有那些!

有三种,间隙配合,过盈配合,还有过渡配合!你多看看机械制图的书!那里有详细的!

影响配合物的稳定性的主要因素有哪些?

影响配合物稳定性的最主要因素就是配合物中配体即中心原子的配位数.中心原子的配位数越大.配合物就越稳定.如乙二胺四乙酸二钠

配合物组成测定思考题:

1、为什么配合反应必须在缓冲溶液中进行?首先,“可以促进晶格的形成”这一说法不对.晶格是在三维空间分布上的对晶体的描述,只存在于晶体中.溶解这一过程本身就是破坏晶格的.其次,“缓冲溶液中的粒子有极性”

为什么二氯甲烷没有同分异构体能证明甲烷是正四面体

因为如果是平面结构,则有二种同分异构体,相邻与相对两种

CsCl的晶体中有没有四面体空隙?四面体空隙在什么地方?

没有,CsCl的晶体中Cs+位于立方体的8个顶点,Cl-位于体心(2者颠倒也可).属于立方体空隙四面体空隙是一个离子做CCP堆积(立方面心最密堆积,即占据8个顶点和6个面面心),一个顶点和相邻的3个面

销孔的配合公差就是普通的平板定位的那种销 配合的精度要取多少有没有销的常用配合

销孔的配合公差是有的,一般的《机械设计手册》都找不到.其实我们加工销孔时,用不上销孔配合公差值的.圆柱销和销孔的过盈配合是通过对应型号的铰刀来实现;而圆锥销和圆锥销孔也是一样的.

铅离子配合物有哪些要是常见的配合物,其结构是什么,是怎么样形成的,反应的条件是什么?

常见的有Pb(CH3COO)2,是铅在有空气作用下溶于热醋酸得到还有H2[PbCl4],可以用PbO溶于浓盐酸得到还有Na2[Pb(OH)4]、Na2[Pb(OH)6],可用PbO、PbO2溶于热的浓

三价钴配合物和二价钴配合物谁更稳定

三价更稳定,三价钴电子层更稳定

EDTA与金属离子的配合物有何特点

1.EDTA具有广泛的配位性能,几乎能与所有金属离子形成配合物,因而配位滴定应用很广泛,但如何提高滴定的选择性便成为配位滴定中的一个重要问题.2.EDTA配合物的配位比简单,多数情况下都形成1∶1配合

配合物的电子光谱有哪些类型

1、电荷迁移光谱(荷移光谱)由于电子在金属与配体间迁移产生的光谱.2、d—d跃迁光谱电子在金属离子d轨道间跃迁产生的光谱.3、异号离子光谱外界抗衡离子的吸收光谱.如[Cu(NH3)4](NO3)2中N

配位能力、配合物稳定性的决定因素有哪些?

一般,中心离子带电情况,带正电高,较易形成配合物.配体的带电,带负电多,较易给出电子,形成配合物.反应时的条件如温度,一般温度低,较易形成配合物.

配合物稳定性简介有路易斯酸碱规则如何确定反应物与生成物

[编辑本段]稳定性通常,配位化合物的稳定性主要指热稳定性和配合物在溶液中是否容易电离出其组分(中心原子和配位体).配位本体在溶液中可以微弱地离解

四面体就是三棱锥正四面体不同于正三棱锥,这个我知道,但四面体和三棱锥,的区别,有么?

四面体就是三棱锥;三棱锥就是四面体.只是强调的方面不同:说三棱锥,你就会立马想起它的“底”.四面体就部分主次了.

配合物ML6有没有三重轴

可能有再问:可能?再答:是的要看结构的再问:三个相同的双基配体(配体自身对称)再答:有

配位键不是共价键的一种么?那配合物为什么是平面的?它有没有极性?铵盐和水合氢根离子又是怎么回事?

首先配位键是不是共价键这个问题就比较难回答.不过可以明确的配位键和共价键毫无关系.详细点说配位键可以是共价的也可以是离子键,也可能既不是共价也不是离子,所以你从正规的教材中是看不到共价键分类有配位键这

公差有几种配合我只知道有间隙配合,过盈配合,还有其他的配合吗?~

过渡配合配合公差(或间隙公差):是允许间隙的变动量,它等于最大间隙与最小间隙之代数差的绝对值,也等于互相配合的孔公差带与轴公差带之和.间隙配合:孔的公差带完全在轴的公差带之上,即具有间隙的配合(包括最